Inpria與SK hynix聯合開發金屬氧化物抗蝕劑，降低新一代DRAM的製版複雜性 - 美國商業資訊

東京--(美國商業資訊)--JSR株式會社(JSR Corporation)今天宣布加速與SK hynix Inc.的合作開發進程，以便將JSR旗下公司Inpria的極紫外光(EUV)金屬氧化物抗蝕劑(MOR)應用於製造先進的DRAM晶片。Inpria擁有廣泛專利的EUV金屬氧化物光阻劑平臺使客戶能夠高效率地對先進節點設備架構進行製版。 Inpria的材料解決方案提......

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