完全自主研發,我國超高精度激光光刻技術取得重大突破; - 自媒體圈
完全自主研發,我國超高精度激光光刻技術取得重大突破; 完全自主研發,我國超高精度激光光刻技術取得重大突破;① 近日,中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所張子暘研究員與國家納米中心劉前研究員合作,開發成功新型5nm超高精度激光光刻加工方法。該技術使用了研究團隊所開發的具有完全知識產權的激光直寫設備,打破了傳統激光直寫技術中受體材......
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