Gigaphoton開發ArF準分子雷射器氣體回收系統 - 文傳商訊
日本栃木縣小山市--(美國商業資訊)--半導體微影光源製造商Gigaphoton Inc.（總部：栃木縣小山市；總裁兼執行長：Tatsuo Enami）宣布，已開發出用於ArF準分子雷射器的現場氖氣回收系統hTGM for ArF。 ArF微影在先進半導體的量產中扮演著關鍵角色。雷射的穩定運行以及稀有氣體資源的有效利用，是半導體製造商面臨的關鍵挑戰。 近年來，受地緣政治風險和全球供應......
